探花 眼镜 音信称三星电子 2025 岁首引进其首台 ASML High NA EUV 光刻机
据报谈，三星电子决定在2025岁首引进其首台ASML High NA EUV光刻机，并与英特尔、台积电伸开下代光刻技能生意化研发竞争。此前，三星电子与比利时微电子征询中心imec配合，在imec成就的High NA EUV光刻本质室进行了对High NA光刻的初步探索。推敲到精密的High NA EUV光刻机需要一段时间用于装置和调试，该机台有望最早于来岁中旬参加研发使用。
由于三星当今半导体先进制程途径图已绸缪至SF1.4节点（即2027年量产），摄取High-NA 光刻的制程最早也需要比及SF1。
r级书屋狂师在先进制程代工边界，三星的主要竞争敌手英特尔已完成第二台 High NA EUV 光刻机装置，台积电的首个机台也将于本年内结束录用。此外，在存储边界，SK海力士的首台 High NA EUV 光刻机则有望2026年引入。
起首：https://www.top168.com/news/show-217910.html探花 眼镜
imec光刻机英特尔三星电子台积电发布于：北京市